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🏮【科技新未來 EP60】半導體材料大突破：台積電加州大學特聘教授製作超晶格(Superlattice)先進電晶體🏮
晶片電晶體設計又有重大突破，透過改良電晶體開關的關鍵作用，在不犧牲運算速度、晶片尺寸下，可以同時降低耗能，晶圓代工龍頭台積電特聘教授、加州大學柏克萊分校電氣工程和電腦科學教授：Sayeef Salahuddin，讓半導體材料又有了新突破！
00:00 開場大綱 | Intro, Summary
01:16 先進製程的尺寸定義
03:49 超晶格(Superlattice)的定義與製作
06:31 先進製程遇到的瓶頸：短通道效應(Short channel effect)
10:53 鐵電—反鐵電超晶格(FE-AFE superlattice)
12:50 負電容(Negative capacitance)使電晶體的功耗降低
15:45 新型電晶體閘極：二元氧化物薄膜(HZH)
21:04 結論 | Conclusion
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【參考資料】
Atkinson發表在科技新報
加大柏克萊分校發現新電晶體設計，協助晶片降低運算功耗！
https://technews.tw/2022/04/12/uc-berkeley-discovers-new-transistor-design/
自然期刊
https://www.nature.com/articles/s41586-022-04425-6
【知識力專家社群】
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https://bit.ly/ansforceline
#台積電 #TSMC #超晶格 #短通道效應 #負電容 #二元氧化物薄膜
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01:16 先進製程的尺寸定義
03:49 超晶格(Superlattice)的定義與製作
06:31 先進製程遇到的瓶頸：短通道效應(Short channel effect)
10:53 鐵電—反鐵電超晶格(FE-AFE superlattice)
12:50 負電容(Negative capacitance)使電晶體的功耗降低
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